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Silicon Oxide is a Non-Innocent Surface for Molecular Electronics and Nanoelectronics Studies

机译:氧化硅是分子电子学和非催化剂的非无辜表面   纳米电子学研究

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摘要

Silicon oxide (SiOx) has been widely used in many electronic systems as asupportive and insulating medium. Here we demonstrate various electricalphenomena such as negative differential resistance, resistive switching andcurrent hysteresis intrinsic to a thin layer of SiOx. These behaviors canlargely mimic numerous electrical phenomena observed in molecules and othernanomaterials, suggesting that substantial caution should be paid when studyingconduction in electronic systems with SiOx as a component. The actual switchingcan be the result of SiOx and not the presumed molecular or nanomaterialcomponent. These electrical properties and the underlying mechanisms arediscussed in detail.
机译:氧化硅(SiOx)已在许多电子系统中广泛用作支撑和绝缘介质。在这里,我们演示了各种电现象,例如SiOx薄层固有的负差分电阻,电阻切换和电流滞后。这些行为可以极大地模仿在分子和其他纳米材料中观察到的许多电现象,这表明在研究以SiOx为成分的电子系统中的导电时应格外小心。实际的转换可能是SiOx的结果,而不是推测的分子或纳米材料组分。这些电性能和潜在的机制进行了详细讨论。

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